原子層沉淀（ALD）用臭氧發生器有哪些品牌呢

以下是一些原子層沉積（ALD）中可能會用到的臭氧發生器品牌：

北京同林（TOGNLIN）：北京同林科技有限公司是一家是提供高純高濃度臭氧發生器系統服務商，目前產品包括半導體用高濃度臭氧發生器、臭氧氣體分析儀、溶解臭氧分析儀、臭氧水機、半導體用管道和接頭等。 已經應用于眾多半導體企業、科研單位。為原子層沉積（ALD）、化學氣相沉積（CVD）、光刻膠帶、晶片清潔、污染物去除、表面調節和氧化物生長等半導體工藝設備提供系統設備。適用于半導體的型號包括ATL-H30，3S-T10 ，NANO-15等。

奧爾斯曼（olsm）：天津奧爾斯曼新能源科技有限公司專注于設計、研發和制造各類先進的高純高濃度臭氧發生器系統，為原子層沉積等半導體工藝設備提供最佳的臭氧解決方案。公司目前已量產 3 個系列的高純高濃度臭氧發生器設備，包括 O3HIS 系列、HCV4014 系列和 CH1004 系列。

國林科技（GUOLIN）：青島國林環保科技股份有限公司成立于 1994 年，專業從事臭氧產生機理、臭氧應用技術、臭氧材料研究和臭氧設備制造，是亞洲較大的專業化臭氧裝備生產企業。公司擁有多項專有技術，產品可應用于多個領域，在原子層沉積方面也有一定的技術實力和市場份額。

蘇伊士新創建（SUEZ）：法國蘇伊士環境有限公司旗下品牌，始于 1897 年法國，由 OZONIA 更名而來，是全球知名的臭氧和紫外線消毒技術提供商和設備制造商，其臭氧發生器產品在水處理、工業應用等領域有廣泛的應用，也可能涉及原子層沉積等高端領域。

威德高（Wedeco）：隸屬于賽萊默集團，1976 年創始于德國，是世界水技術知名企業，全球較大規模的紫外線消毒系統和臭氧氧化系統的制造商。威德高于 1988 年推出臭氧技術，應用于飲用水、廢水、工藝用水、產品拋光、漂白、臭氧分解合成和除臭等場景，在原子層沉積行業也可能有一定的市場。

三菱（Mitsubishi）：三菱電機株式會社始于 1921 年日本，作為一家技術導向型企業，在壓縮機、自動化、變頻控制、動力設備等高科技領域造詣極深，其研發與制造的臭氧發生器被廣泛應用于凈水處理、污水系統及工業廢水的處理設施等各種場所，也可能應用于原子層沉積工藝中。